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  • seekingalpha

    06/18/2025, 10:07 PM UTC

    1. ASML推出价值3.8亿美元的最新一代High-NA EUV光刻机,推动半导体进一步微型化;2. 该设备可制造2纳米及更小制程芯片,延续摩尔定律并提升性能与能效;3. 英特尔为首个客户,但量产挑战和高成本可能延缓行业普及进程。

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    本文由大语言模型(LLM)生成,旨在为读者提供半导体新闻内容的知识扩展(Beta)。

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