05/01/2025, 12:49 PM UTC
南安普顿大学安装电子束光刻机Southampton Uni instals EBL machine
➀ 南安普顿大学引进JEOL JBX-8100 G3电子束光刻机，可在10μm厚光刻胶中实现亚5纳米结构加工；
➁ 该200kV设备支持电子位移技术，适用于电子、光子及生物纳米领域，2024年底将新增支持300mm晶圆的JEOL JBX-A9机型；
➂ 获EPSRC资助的实验室集成扫描电镜与深紫外光刻技术，采用Genisys软件实现±9纳米套刻精度，提供联合研究支持。
➀ University of Southampton installed JEOL JBX-8100 G3 EBL machine enabling sub-5nm structure processing in thick resist with vertical sidewalls;
➁ The 200kV system supports electron displacement and multi-domain applications (electronics/photonics/bio-nano), with a 300mm-wafer JEOL JBX-A9 tool to be added in late 2024;
➂ Funded by EPSRC, the facility integrates SEM and deep-UV lithography, using Genisys software for pattern optimization with ±9nm overlay accuracy.
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