04/15/2025, 01:57 PM UTC
德国弗劳恩霍夫集成电路研究所与日本名古屋大学共同研发下一代半导体技术IHP and University of Nagoya, Japan, Collaborate on Next-Generation Semiconductor Technologies
➀ 德国弗劳恩霍夫集成电路研究所与日本名古屋大学合作，共同研究硅锗外延、纳米技术以及先进的半导体和光电子器件。
➁ 合作伙伴旨在通过新的外延技术和方法优化半导体接口，以实现电子设备的微型化。
➂ 研究重点包括硅锗外延过程、用于高效能晶体管和激光的硅锗纳米线和纳米颗粒的性质，以及硅和锗纳米结构的发光特性。
➀ IHP, in collaboration with the University of Nagoya, is engaged in research on SiGe epitaxy, nanotechnology, and advanced semiconductor and optoelectronic devices.
➁ The partnership aims to optimize semiconductor interfaces through new epitaxial techniques and methods to enable the miniaturization of electronic devices.
➂ The research focuses on SiGe epitaxy processes, properties of silicon-germanium nanowires and nanoparticles for energy-efficient transistors and lasers, and luminescence properties of Si and Ge nanostructures.
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