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  • 是德科技在2025年DAC大会:EDA与多物理场创新的AI革命

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    06/19/2025, 05:00 PM UTC

    ➀ 是德科技将在DAC 2025上展示支持AI的EDA工具、多物理场工程流程及统一软件平台,聚焦射频设计与数据管理创新;

    ➁ 联合英特尔代工、费米实验室等企业进行案例演示,技术议题涵盖芯粒设计、云迁移和AI驱动自动化;

    ➂ 亮点活动包括《芯片法案》行业解读、AI工程应用海报展示,以及数据管理方案的现场竞赛。

    是德科技将在2025年设计自动化大会(DAC)展位#1408全面展示其AI驱动的电子设计自动化(EDA)与多物理场工程创新解决方案。此次展示覆盖四大核心领域:多物理场工程流程支持AI的射频设计EDA工具链AI驱动的数据管理平台,以及整合CAE、EDA与光学的统一软件工作流。通过与Silvaco、Ansys等技术伙伴的合作,相关工具已成功应用于Alphawave的芯片设计、费米实验室的加速器开发等场景。

    大会期间,是德科技将举办多场深度技术活动。6月23日下午4点的DAC展馆论坛中,业务总经理Nilesh Kamdar将解析《芯片法案》如何推动AI自动化与云端协作技术发展;随后的工程轨道海报展示环节,团队将分享AI在模拟混合信号文档追溯、云端数据迁移及智能缓存管理中的应用突破。值得注意的是,产品经理Prathna Sekar还将参与年度海报竞赛,展示其设计数据管理方案SOS如何通过Git集成实现流程自动化。

    展台特别设置了合作伙伴案例专区,英特尔代工服务将演示云端芯粒设计流程优化,莱斯大学将披露射频集成电路(RFIC)设计中的AI参数调优成果。参观者可通过预约与专家就芯粒/SOC设计数据管理、毫米波集成电路(MMIC)仿真等五大主题进行深入研讨。展会结束后,所有技术演讲视频将在是德科技YouTube频道同步公开。

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    本文由大语言模型(LLM)生成,旨在为读者提供半导体新闻内容的知识扩展(Beta)。

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