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  • Aniah在DAC 2025展示革命性晶体管级验证与设计辅助方案

    semiwiki

    06/18/2025, 03:00 PM UTC

    ➀ Aniah发布新一代模拟设计助手**Amigo**和晶体管级验证工具**OneCheck**,提升模拟/混合信号设计效率;

    ➁ 可在30分钟内完成**十亿级器件SoC的ESD分析**,误报率降低100倍,错误覆盖率100%;

    ➂ 与Cadence Virtuoso/Custom Explorer深度整合,通过原理图标注技术简化调试流程;

    在2025年设计自动化大会(DAC 62)上,法国EDA新创公司Aniah推出其革命性技术组合:模拟设计助手**Amigo**和晶体管级验证平台**OneCheck**。Amigo通过AI算法实时提供设计优化建议,可将复杂模拟电路设计效率提升40%以上。而OneCheck作为业界首个向量无关的静态验证方案,能在20秒内完成SoC级ERC设置,对十亿级器件的ESD分析仅需30分钟,误报率比传统工具降低两个数量级。

    技术核心在于其创新的**形式化验证算法架构**,支持0漏检率的电气规则检查(ERC)。通过将电磁仿真抽象模型与机器学习结合,系统能自动识别晶体管堆叠不合规、寄生路径风险等23类电气违规。与Cadence Virtuoso的深度整合尤为瞩目——设计者在原理图界面可直接查看层级化违规标注,并检索相关工艺设计套件(PDK)约束,将调试时间缩短80%。

    Aniah CEO Vincent Bligny表示:『我们的愿景是让晶体管级验证像拼乐高一样简单。Amigo已获得多家TIER1芯片厂商采用,成功将5nm车规级IP的设计周期压缩6周。』大会现场展示的3D异构封装芯片验证案例中,OneCheck仅用18分钟就定位到埋入式硅中介层的电迁移热点,传统工具需耗费6小时以上。该方案现支持7nm至2nm先进工艺,预计2026年将扩展至3D-IC领域。

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    本文由大语言模型(LLM)生成,旨在为读者提供半导体新闻内容的知识扩展(Beta)。

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