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  • seekingalpha

    06/19/2025, 03:00 PM UTC

    1、台积电A16芯片制造技术计划通过ASML的高数值孔径EUV光刻机超越英特尔的14A工艺;2、该技术采用背面供电设计以提升芯片性能和能效;3、这一竞争凸显了半导体制造领域创新速度的持续加快。

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    本文由大语言模型(LLM)生成,旨在为读者提供半导体新闻内容的知识扩展(Beta)。

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