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  • electronicsweekly

    06/11/2025, 05:20 AM UTC

    ➀ 美光基于1ß DRAM工艺和12层堆叠封装技术的HBM4进入样品测试阶段,计划2026年量产;

    ➁ HBM4每堆栈带宽超2.0 TB/s,性能较HBM3E提升60%,能效提高20%;

    ➂ SK海力士计划2025年下半年在3nm节点量产HBM4,三星则开发4nm工艺HBM4,两者均与台积电合作生产基版和采用CoWoS封装。

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    本文由大语言模型(LLM)生成,旨在为读者提供半导体新闻内容的知识扩展(Beta)。

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