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  • seekingalpha

    06/02/2025, 06:37 AM UTC

    1、ASML推出售价3.5亿美元的突破性High-NA EUV光刻机,旨在推动下一代芯片制造;2、该设备可加速先进芯片生产,有望彻底改变半导体制造效率;3、英特尔和台积电等主要客户已下单,英特尔计划2025年前应用该技术。

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    本文由大语言模型(LLM)生成,旨在为读者提供半导体新闻内容的知识扩展(Beta)。

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