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  • idw-online

    02/27/2025, 09:25 AM UTC

    ➀ 碳化硅(SiC)为功率电子提供了显著的技术优势,但其成本仍是市场渗透的障碍。弗劳恩霍夫研究所正在开发关键技术,以减少材料损失和器件厚度,同时提高碳化硅芯片的热机械稳定性。

    ➁ ThinSiCPower项目旨在通过更高效的加工技术,如激光分离碳化硅晶体并将其粘接到载体衬底上,来生产成本效益高的碳化硅衬底和更薄的碳化硅芯片。

    ➂ 项目合作伙伴包括弗劳恩霍夫ISE、ENAS、IWM和IISB,目标是通过提高负载循环稳定性,将碳化硅器件成本降低25%,将碳化硅设计成本降低25%。

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    本文由大语言模型(LLM)生成,旨在为读者提供半导体新闻内容的知识扩展(Beta)。

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