04/18/2025, 11:47 AM UTC
优化钴薄膜以提高数据存储性能：等离子体辅助表面改性Optimizing Cobalt Thin Films for Data Storage: Plasma-Assisted Surface Modification
➀ 本研究探讨了如何通过等离子体辅助表面改性技术来改善金属薄膜，尤其是用于硬盘驱动器（HDD）的钴层，以提高其性能和可靠性。
➁ 研究使用分子动力学（MD）模拟和实验验证来展示不同惰性气体离子如何影响表面突起的大小和表面纹理。
➂ 研究结果表明，较重的惰性气体离子在减少表面突起大小方面更为有效，其中氙（Xe）提供了最显著的平滑效果。
➀ This research investigates how metallic thin films, specifically cobalt layers used in hard disk drives (HDDs), can be modified to improve performance and reliability through plasma-assisted surface modification techniques.
➁ The study uses molecular dynamics (MD) simulations and experimental validation to demonstrate how different inert gas ions affect asperity size and surface texture.
➂ The findings suggest that heavier inert gas ions are more effective at reducing asperity size, with Xenon (Xe) providing the most pronounced smoothing effect.
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