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  • seekingalpha

    05/03/2025, 12:30 PM UTC

    1、台积电新一代A16芯片制造技术将采用ASML的High-NA EUV光刻机,以提升晶体管密度和能效;2、A16制程旨在与英特尔即将推出的14A(1.4纳米)节点竞争,加剧先进半导体制造的行业角逐;3、ASML的High-NA EUV设备是下一代芯片开发的关键技术,台积电和英特尔均计划将其用于未来制程。

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    本文由大语言模型(LLM)生成,旨在为读者提供半导体新闻内容的知识扩展(Beta)。

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